涂膠顯影機(jī)（SUSS)：Arm傳送方式，涂膠顯影盤邊緣吸附，一體化為MEMS結(jié)構(gòu)器件定制設(shè)備，有多種膠管支撐工藝選擇。

雙面曝光機(jī)(SUSS)：支持雙面曝光，正面曝光對準(zhǔn)精度1um，背面曝光對準(zhǔn)精度1.5um，支持最小CD尺寸2um工藝。

步進(jìn)光刻機(jī)(Ultatech Stepper)：
①核心光刻性能參數(shù)
光源波長：365 nm（i-line紫外光源） 
分辨率：0.5 µm（光刻膠厚度1µm條件下） 
曝光均勻性：≤±1.5%
②對準(zhǔn)與精度系統(tǒng)
對準(zhǔn)精度≤ 120 nm 
套刻精度≤ 110 nm